一块芯片或许只有指甲盖那般大小，一根头发的直径约是80-90微米。一块小小的芯片，1微米级的差距，何以在集成电路研发领域引起轰动，乃至关系到整个国家的信息安全？

微纳制造是新一代信息功能器件的核心技术，在国家中长期科技发展规划纲要中被确定为重点领域的优先主题，是引领未来社会发展的22项前沿技术之一。在集成电路制造过程中，需要用光掩模（又称光罩，MASK）在一次曝光中把设计的图形转移到硅片上, 它对半导体的作用就相当于照相机的胶卷底片。光掩模是微纳制造和集成电路等领域的核心器件，是微纳制造的“模具”和基准。

光掩模可应用于航空航天、军事、国防、集成电路、消费电子、MEMS、光电子、新能源和科学研究的各个领域，具有自主知识产权的掩模制造技术，能高质量地保证数据安全性，对于国家信息安全至关重要。涉密的专用集成电路和特别项目类芯片，如果由国外公司制作掩模，势必存在很大的泄密风险，然而长期以来，微纳掩模的制造主要被国外企业垄断。华润微电子历经了六年攻关，在高精度微纳结构掩模制造核心技术上做出重大突破，解决了衍射对分辨率的影响，最终用１微米设备实现了50nm分辨率，增强了公司对外竞争力，维护了国家的集成电路安全。

华润微电子掩模工厂是国内最早从事光掩模制造的专业国有企业，拥有国内领先的光掩模制造设备、技术工艺、质量控制和信息安全保护措施。中科院微电子所和华润在技术、标准、平台共享和市场互补等方面合作近20年，早在2003年，双方就研发“微纳结构‘自上而下’制备核心技术与集成应用”项目踏上了合作的征途，公司依托政府资金支持，组建了自己的研发团队。然而在此之前，华润微电子内部谁也没有接触过微纳掩模，项目研发初期，困难接踵而至。

首先遇到的“拦路虎”是净化环境，研发所需的洁净室内要求空气洁净度等级为1级（指每立方英尺空气中大于等于0.1微米粒径的尘埃数量不超过1颗），而实际因为过滤器老化的问题，部分1级洁净室的洁净度等级已降至10级甚至百级。为了找到满足研发需求的净化环境，项目组员工手持检测仪，扫描了洁净室所有的过滤器，直至确认适合研发的环境。

光掩模的精度误差，直接影响信息产品的质量。缺陷是影响光掩模良率的主要因素，在生产过程中，因工艺的不稳定性、化学品的纯度、设备的性能等综合因素，缺陷不可避免，为了提高良率，工程技术人员对相关工序逐个排查，在度过了一个又一个辗转反侧的夜晚后，灵感在深夜“突袭”了项目负责人。

清洗工序是微纳研发的关键，在先进的清洗设备未到位前，项目组员工没有“等、靠、要”，而是积极地对原有设备进行技改。为了取得精确的数据，他们长时间匍匐在机器下方，打着手电筒观察水泵压力表，记录批量数据进行分析；腐蚀机台没有自动清洗泵，他们就连续多日手动清洗验证。

随着技术节点的提升，水雾问题成了微纳掩模研发的又一大“拦路虎”，解决不好会直接影响掩模的使用寿命。工程技术人员从成分分析着手，重新确定了清洗液的化学配比，还通过调整清洗液温度和流量反复进行试验，在前前后后优化修改了30多次清洗程序后，终于找到了匹配的工艺。

项目组人员对工作充满了激情，但他们对自己和家人又显得那么“无情”。 0.35微米首套微纳掩摸应用产品制作时恰逢五一长假，项目组遇到了清洗后出现玻璃面水雾的问题，所有人都在加班加点，就在此时，一位工程师接到了最疼爱她的奶奶的病危通知。

回还是不回？内心的纠结和煎熬折磨着她。作为主要研发人员，每个人都有各自负责的一块，如果少了一人，势必增加另一人的工作量，影响项目在此关键时刻的推进。此外，这套应用产品还属首套，他们跟客户下过军令状，必须按时完成。最终她选择了坚守岗位，直到这套应用产品完成交付，才匆匆赶回老家，可她却错失了与奶奶见最后一面的机会。有人问她后悔吗？她说，曾无数次梦到奶奶和从前的一些事，希望远在天国的她能原谅自己。

六年，攻关过程中发生的类似故事犹如夜空繁星，不胜枚举。“志于道，据于德，依于仁，游于艺”，项目组的团队成员始终将这项技术攻关视为一份可以持之以恒、奋斗终生的事业。为了打破外国垄断，为了国家的集成电路安全，在微米级的“战场”上，始终跃动着一颗“中国芯”。